溫度控制：通過軟件上的人機交互界面直接設置所需的溫度值，計算機軟件將指令處理到高溫爐的加熱控制器?？刂破魍ㄟ^溫度傳感器（熱電偶）讀取樣本區域的實際溫度值，并通過其內部模糊控制PID調整輸出電流。一般來說，溫度在其精度范圍內是穩定的，以實現用戶所需的不同溫度。

　　磁場控制：用戶可以通過軟件直接設置所需的磁場大小，通過精度高斯計讀取實際磁場值，然后將實際讀取的磁場值反饋給精度恒流電源。經過電源內部軟件處理后，用戶可以直接控制精度恒流電源的輸出電流，從而實現用戶所需的磁場并實時顯示在軟件上。

　　真空環境：通過分子泵組獲得真空環境，由高真空全量程真空計顯示和監控，檢測結果實時傳輸到計算機。

　　退火工藝：在強磁場（或非磁性）環境中加熱樣品，將其加熱到一定溫度（用戶需要自行設置）并保持該溫度，然后繼續添加磁場（可以隨時改變），達到用戶目的后，關閉磁場，關閉加熱環境，并將其冷卻到室溫。

　　樣品環境：該高溫退火爐可以將被測樣品同時放置在強磁場、高真空和高溫環境中。同時，這三種實驗環境也可以單獨或任意組合，以滿足不同環境中不同樣品的測試要求。

　　高溫磁場加熱爐系統是分子泵組中的機械泵（干泵）先使真空室（樣品室）變粗糙。當達到分子泵的限度真空時，打開分子泵進行高真空提取，以達到客戶所需的真空。打開軟件，在軟件中輸入所需的磁場值和溫度值，通過閉環反饋調節，使設備中樣品的溫度自動控制并穩定在一定的溫度值。軟件可以根據用戶給定的實驗條件完成實驗。

　　高溫退火爐的適用范圍：在高溫、高真空、強磁場環境下需要加熱或退磁的各種軟磁材料。